סירת פרוסות SiC בעלת טוהר גבוה

בתחום ייצור מוליכים למחצה, תהליכים בטמפרטורה גבוהה מציבים אתגרים קיצוניים לנשאי פרוסות ופלים. כאשר הטמפרטורה עולה על 1600 מעלות צלזיוס, נשאי הקוורץ המסורתיים (סירת קוורץ המשמשת לפרוסות) מתחילים להתרכך, להתעוות ולשחרר מזהמים, מה שגורם לקצב גרוטאות הפרוסות של פרוסות ופלים לנסוק.

סירת פרוסות SiC בעלת טוהר גבוה, עם היתרונות החומריים הטבועים של סיליקון קרביד (SiC), פותרת לחלוטין את נקודת הכאב הזו בתעשייה והופכת לכלי חיוני לייצור מוליכים למחצה מתקדם, במיוחד ייצור התקני כוח SiC.

תכונות פיזיות עיקריות ופרמטרים טכניים של המוצר:

הביצועים המצוינים של נשא פרוסות סיליקון קרביד (SiC Wafer Carrier) נובעים מתכונותיו הייחודיות בתחום מדעי החומרים. להלן השוואה מפורטת של פרמטרים פיזיקליים מרכזיים:

פרמטרים אלה מתורגמים ישירות לשיפור התפוקה ולהפחתת עלויות בייצור מוליכים למחצה, כפי שמוצג להלן:

יתרון בביצועים תרמיים: פער האנרגיה הרחב של SiC (3.26 eV) מבטיח שמירה על מבנה גבישי יציב ב-2000 מעלות צלזיוס ומונע עיוות תרמי. מוליכות תרמית גבוהה (4.9 W/cm·K) מאפשרת חימום אחיד יותר של הוופל ומבטלת פגמי סריג הנגרמים ממאמץ תרמי.

חוזק מכני: קשיות של 9.2 Mohs עמידה בפני פגיעה פיזית במהלך התהליך, וחיי השירות הם יותר מפי 10 מזה של נשאי קוורץ מסורתיים. עיצוב החריץ החצי-מעגלי הייחודי שולט במאמץ המגע של פרוסת הוופל מתחת ל-5MPa, ובכך מבטל למעשה את תופעת ההחלקה בטמפרטורה גבוהה.

אינרטיות כימית: סבילות לגזים קורוזיביים ביותר כגון HF ו-HCl עולה על 10,000 שעות, ואפס זיהום נשמר ב-LPCVD, דיפוזיה, חמצון ותהליכים אחרים.

התפקיד המרכזי של סירת פרוסות SiC טוהר גבוה

סירת פרוסות ה-SiC בעלת הטוהר הגבוה שלנו נמצאת בשימוש נרחב בתהליכי ייצור המוליכים למחצה העיקריים הבאים:

חישול בטמפרטורה גבוהה: בקו הייצור של יצרן פרוסות סיליקון, חישול בטמפרטורה גבוהה הוא שלב מפתח להפעלת חומרים ממכרים ולתיקון פגמי סריג. היציבות בטמפרטורה גבוהה של סירת פרוסות סיליקון מבטיחה את האחידות והיעילות של תהליך החישול.

צמיחה אפיטקסיאלית: בין אם מדובר באפיטקסיה מבוססת סיליקון או באפיטקסיה של פרוסות סיליקון קרביד, עמידות הטמפרטורה הגבוהה ועמידות בפני קורוזיה של סירת פרוסות SiC הופכות אותה לנשא אידיאלי להבטחת צמיחת שכבה אפיטקסיאלית באיכות גבוהה.

הפצה: בתנור דיפוזיה בטמפרטורה גבוהה, סירת פרוסות ה-SiC בסירת פרוסות ה-LPCVD יכולה לעמוד בטיפול ארוך טווח בטמפרטורה גבוהה כדי להבטיח דיפוזיה אחידה של אטומי סימום וליצור תכונות חשמליות מדויקות.

תצהיר סרט דק: במיוחד עבור יישומי סירות פרוסות Lpcvd, פליטת החלקיקים הנמוכה ביותר והמוליכות התרמית המעולה של סירות פרוסות SiC מסייעות להשיג סרטים באיכות גבוהה ואחידות גבוהה.

תאימות ציוד ותהליך תואמים:

✔ תואם לתנורי LPCVD נפוצים (כגון TEL, Kokusai, ASM, SVG, Tystar וכו')

✔ מפרטי פרוסות ניתנים להתאמה אישית כגון 100 מ"מ/150 מ"מ/200 מ"מ

✔ תומך בהתקנת ציוד תהליך אופקית ואנכית

סירת פרוסות SiC של Semixlab היא בחירה אידיאלית לשיפור יעילות התהליך ואת תפוקת המוצר, והיא מובילה בפתרונות מתקדמים של סירת פרוסות מוליכים למחצה.

חנויות מוצרי Semixlab